 | РАЗДЕЛЫ: |
| | | | |
| |
|
| | |
| | |
| |
| | |
| | |
| | |
| | |
| |
| | |
| | |
| | |
| |
| | |
| | |
| | |
| |
| | |
| | |
| | |
| | | |
| | |
| |
| |
| |
| |
| |
| |
|
 |
Фотохимия для пленки: процессы AP 70, AP 71, AP 72 и AP
73
Для обработки цветной негативной пленки применяютя процессы AP 70, AP 71,
AP 72 и AP 73, из которых наиболее часто применяются последние два.
AP 70
применяется для фильмпроцессоров, работающих по процессу WSP (оптовые фабрики);
AP 71
применяется для фильмпроцессоров, работающих по процессу C-41 BNP;
AP 72
применяется фильмпроцессоров, работающих по процессу C-41;
AP 73
применяется для фильмпроцессоров, работающих по процессу CN-16 Q (Fuji)
Все процессы имеют различное время протекания и расход компонентов:
| AP |
|
Полное время процесса |
| 70 |
CD 195 s |
BL 260 s |
FX 260 s |
SB 220 s |
FI 65 |
16 мин 40 сек |
| 71 |
CD 195 s |
BL 180 s |
FX 240 s |
SB 140 s |
|
12 мин 35 сек |
| 72 |
CD 195 s |
BL 45 |
FX 90 |
SB60 |
|
6 мин 30 сек |
| 73 |
CD 195 s |
BL 60 |
FX 195 s |
SB 100s |
FI 40 |
9 мин 50 сек |
Использование
процессов для различных типов минилабораторий
|
